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金属有机化合物化学气相沉积

网络metal-organic chemical vapor deposition;mocvd

金属有机化合物化学气相沉积

金属有机化合物化学气相沉积

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金属有机化合物化学气相沉积法制备铱薄膜的研究

Iridium Film Prepared by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
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采用等离子体增强金属有机化合物化学气相沉积（PEMOCVD）工艺制备含铁聚合物薄膜。

Fe-containing polymer films have been prepared by plasma enhanced metal-organic chemical vapour de-postion ( PEMOCVD ) .

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